Date : 2017/03/13, Hit : 443
Á¦¸ñ    2017³â -11Â÷- ÆèÅä°øÁ¤ ¿¬±¸È¸ ¾È³»ÀÔ´Ï´Ù.
ÀÛ¼ºÀÚ   S.H.Cho
È­ÀÏ   

Çѱ¹±â°è¿¬±¸¿ø ±¤ÀÀ¿ë±â°è¿¬±¸½Ç Á¶¼ºÇÐ ¹Ú»ç´Ô ¿¬±¸½Ç ÀÔ´Ï´Ù.
¾Æ·¡¿Í °°ÀÌ 2017³â -11Â÷- ÆèÅä°øÁ¤ ¿¬±¸È¸¸¦ °³ÃÖÇÕ´Ï´Ù.

ÆèÅä°øÁ¤ ¿¬±¸È¸ – 2017³â – 11Â÷
ÀϽà : 2017³â 3¿ù 14ÀÏ (È­)
½Ã°£ : 10:45 ~ 12:00
Àå¼Ò : ±â°è¿¬ 14µ¿ 2Ãþ ¼¼¹Ì³ª½Ç
Date : Mar. 14. 2017 (Tue.) 10:45 ~ 12:00, Place: Seminar Room, 2nd Floor, Build No.14-C (Department of Laser & Electron Beam Application) Building. KIMM
½Ã°£ : 10:45 ~ 12:00, ¿¬±¸ÀÚ ±â¼ú¿¬±¸È¸
- (UST °­ÀÇ) ±ØÃÊ´Ü ·¹ÀÌÀú ±â¹Ý ³ª³ë¸ÞīƮ·Î´Ð½º °øÇÐ
- ·¹ÀÌÀúÀÇ ±âº» ¿ø¸® ¹× ÃÖ±Ù ·¹ÀÌÀú °¡°ø ±â¼ú ÇöȲ
- ÃÖ±Ù ½ÇÇè °á°ú ¹× ÇâÈÄ ½ÇÇè °èȹ
- ³í¹® ½ºÅ͵ð (ÁÖ·Î Appl. Phys. Lett., Opt. Lett., Optic Express À§ÁÖ)
- ƯÇã µ¿Çâ ¹× °úÁ¦ µµÃâ ÁøÇà/Áغñ »çÇ×
- ±â¾÷°úÀÇ °øµ¿ ¿¬±¸ ½ÇÇè °á°úµî
- ·¹ÀÌÀú °øÁ¤ ºÐ¾ß Çö¾È
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¹ßÇ¥ÀÚ : Á¶¼ºÇÐ, ÃÖ¿ø¼® (¿¬±¸¿ø, ¹Ú»ç°úÁ¤), ÀüÁø¿ì (Á¤Ã¥ ¹× ½Å±Ô°úÁ¦´ã´ç), ±èÈÆ¿µ (¹Ú»ç°úÁ¤), Áö¼®¿µ(¹Ú»ç°úÁ¤), Á¶±¤¿ì (¢ß¾ÆÀÎ ÀÌ»ç, 2017¹Ú»ç°úÁ¤), ½Å¿µ°ü(¼®»ç°úÁ¤), Ȳ±âÇÏ(ºÎ»ê´ë), ¹Ú´Ù¼Ø(¼®»çÀÎÅÏ), À̵¿±Ô(UST ¼®¹Ú»çÅëÇÕ°úÁ¤ ÀÔÇп¹Á¤) ¿ÜºÎ±â¾÷ ÆÄ°ß¿¬¼ö»ý
°ü½É °è½Å ¿¬±¸½Ç ½Ç ¿øºÐµé ¹× Çлý, ¿¬±¸¿ø ºÐµéÀÇ Âü¼® ȯ¿µÇÕ´Ï´Ù.
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< ¿¬±¸½Ç/ÆÀ ÁÖ¿ä ÀÏÁ¤ >
- ÇØ¿ÜÀÎÅÏ ÆÄ°ß ¿¬¼ö
ÃÖ¿ø¼® ÆÄ°ß±â°ü : ÀϺ» ±¹¸³ ÀÌÈ­Çבּ¸¼Ò(RIKEN). Sugioka Lab.
ÆÄ°ß±â°£ : 2017. 06. 01 – 11. 30 (6°³¿ù)

< 2017 SCI ³í¹® >
1. ÃÖ¿ø¼®, ¡°Vibration Assisted Femtosecond Laser Drilling with Controllable Taper Angles for AMOLED Fine Metal Mask (FMM) Fabrication¡±, 10, 212, Materials (2017)
2. ±èÈÆ¿µ, ¡°Selective Layers Removal of AMOLED using Femtosecond Lasers¡± (prepared to OLEN (SCI))
3. ÃÖ¿ø¼®, ¡°Selective Repair Process of AMOLED Fine Metal Mask(FMM)¡± (prepared to Appl. Phys. A (SCI))

< ƯÇã ÁøÇà»çÇ×-2017>
ÇٽɿøÃµÆ¯Çã ÃÑ 5°Ç Ãâ¿ø¿¹Á¤

< Æ÷»ó, ¼ö»ó>
1. Çѱ¹±â°è¿¬±¸¿ø ÃÖ¿ì¼ö¿¬±¸»ó ¼ö»ó (2016. 12. 30)
2. 2016³â Ã⿬(¿¬) ¿ì¼ö ¿¬±¸¼º°ú 10¼± ¼±Á¤ (2017³â 4¿ù ¼ö»ó¿¹Á¤, ¹Ì·¡Ã¢Á¶°úÇкÎ)

°¨»çÇÕ´Ï´Ù.

Çѱ¹±â°è¿¬±¸¿ø Á¶¼ºÇÐ ¹Ú»ç´Ô ¿¬±¸½Ç µå¸².


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