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■ 펨토초 레이저 가공 시스템 요소 기술 개발
■ 박막 미세 가공 기술 연구
■ 다이아몬드, 사파이어, 유리 등 난삭재료 미세가공기술 개발
■ 펨토초 레이저와 재료간의 상호작용 연구
■ 투명유리 내의 컬러센터 구현 기술 개발
■ 펨토초 레이저 응용 45nm급 반도체 건식 세정 기술 개발
■ 차세대 디스플레이 (AMOLED, 플렉서블디스플레이, 투명 디스플레이) 극미세 리페어기술 개발
■ 다층 박막 선택적 제거 기술 개발 (Selective Layer Removal Ablation Tech.)
■ 펨토초 레이저 원자 박막 증착기술 개발 (Femtosecond Laser ALD (Atomic Layer Deposition) Tech.)
펨토초(femtosecond) 펄스 레이저의 장점은 큰 순간 출력을 얻을 수 있다는 것이다. 순간출력은 펄스에너지(J) / 펄스폭(pulse width, sec)의 관계이므로 펨토초 레이저 펄스는 매우 높은 출력을 가지게 된다. 최근 연구와 가공에 사용되는 펨토초 레이저는 대략 100펨토 내외이며, 증폭할 경우 테라와트(10^12W)에 해당하는 출력을 낼 수 있다. 이러한 순간출력으로 펨토초 레이저는 기존의 나노초 레이저에 비해 보다 높은 수준의 정밀 가공이 가능하다. |
