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| Date : 2012/02/13, Hit : 875 |
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2012년 -5차- 펨토공정 연구회 안내 입니다.(02/14) |
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S.H.Cho |
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| 화일 |
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아래와 같이 2012 -5차- 펨토공정 연구회를 개최합니다.
펨토공정 연구회 - 2012 - 5차 -
일시 : 2012년 2월 14 일 (화)
시간 : 15:00 ~ 18:00
장소 : 기계연 메카동 2층 세미나실 (202호)
Date : Feb. 14. 2012 (Tuesday) 15:00~ 18:00, Place: Seminar Room, 2-st Floor, Mechatronics Building. KIMM
시간 : 15:00 ~ 16:30, 연구자 기술연구회
- 레이저의 기본 원리 및 최근 레이저 가공 기술 현황
- 최근 실험 결과 및 향후 실험 계획
- 논문 스터디 (주로 Appl. Phys. Lett., Opt. Lett., Optic Express 위주)
- 특허 동향 및 과제 도출 진행/준비 사항
- 기업과의 공동 연구 실험 결과등
- 레이저 공정 분야 현안
- 차세대 디스플레이 분야 및 신규 응용 분야
- 연구소 내부 연구인력만 참석 가능
발표자: 박정규(연구원, 박사과정), 윤지욱(연구원, 박사과정), 전진우(정책및신규과제담당), 조현태(석사과정), 최원석 (석사과정), 외부 전문가
관심 계신 연구실 실 원분들 및 학생, 연구원 분들의 참석 환영합니다.
본 연구회는 UST 강의의 일환으로 진행됩니다.
시간 : 16:30 ~ 18:00, 펨토초 레이저 개론 (2/3) (공개 강의)
강사명: 차 용호 박사 (현 한국 원자력연구원 선임연구원)
강의 내용: 레이저 기초 개념 및 레이저의 기초 원리 및 개요
펨토초 레이저 기본 원리 및 개요
학부 3학년- 대학원 석사수준에서 진행
주 약력: 경기과학고졸, KAIST 물리과 학부,석사, 박사과정, 현 원자력연구원 연구원
주 전공: 고출력 펨토초 레이저 개발
<연구실/팀 주요 일정>
2.16-17 : 지경부 산업원천과제 " 고에너지 빔 응용 초정밀 미세가공 시스템 개발" 과제 워크샾 (광주 화천기공, 전남 나주 증흥리조트) 연구팀 전원참석
2/23 : KAIST 광기술연구소 기관사업 평가 위원 위촉 및 평가 참여
2.23-25 : 국제나노가공학회 참석 및 연구실 비젼 (제주 KAL호텔)
3.8 : 프랑스 AP사 CEO및 경영진 본 연구실 방문 및 기술 미팅 개최
6.12-15 : LPM2012 - the 13th International Symposium on Laser Precision Microfabrication, Washington, DC., USA.
6.27 : 독일 Jenoptik (Germany) 연구진 기계연 방문 및 기술 미팅 예정
6.27 : 일본 Keio Univ. 이공학부 학부장 Prof. Minoru Obara (일본 레이저 학계의 대부) 기계연 초청강연
6.28-29 : 한국레이저가공학회 2012 춘계학술대회 (경주 대명콘도)
1. 박정규 "Vibration assisted femtosecond laser machining on metal" Accepted and in press Optics and Lasers in Engineering (2011.11)
2. 박정규 "Removal of nano particles on silicon wafer using the plasma shockwaves excited by a femtosecond laser" Accepted and in press Appl. Surf. Sci.(2011.11)
3. 박정규 "Removal of nanoparticles on silicon wafer by self-channeled plasma filament" Submitted to Optics Express (2011. 12)
4. 윤지욱 "Electrical isolation of flexible silver nanowire network using a femtosecond laser" Preparing to Optics and Lasers in Engineering (2012. 1)
5. 박정규 Preparing to submission to SCI Journal (2012. 1)
<특허 진행사항>
1. 극초단 레이저 응용 차세대 디스플레이용 핵심원천특허 I 출원 완료 (2012.1)
2. 극초단 레이저 응용 차세대 디스플레이용 원천원천특허 II 출원 완료 (2012.1)
3. 극초단 레이저 응용 차세대 디스플레이용 원천원천특허 III 출원 진행중 (2012.1)
감사합니다.
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